総合連絡事項

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2019/04/10

【重要】NUナノリンク共用装置 利用・安全講習会


新井研究室の佐久間と申します。

日頃,NUナノリンク共用装置の利用・運営へのご協力ありがとうございます。

新年度となり,新たな装置利用者も増えると思いますので,

下記の通り,NUナノリンク共用装置の利用・安全講習会を開催したいと思います。

NUナノリンク共用装置の利用者,および,利用予定者の皆様は,

万象お繰り合わせの上,是非ご参集をお願い申し上げます。

 ■NUナノリンク共用装置 利用・安全講習会

 ■主催:ナノライフ研究所

 ■日時:2019423日 16:3018:00

 ■場所:IB館 大講義室

  1    開会の挨拶,ナノライフ研究所紹介

  2    ナノテクプラットフォーム事業説明

  3    NUナノリンク事業説明

  4    クリーンルーム事故例紹介

  5    一般安全

  6    薬品安全

  7    装置安全

  8    クリーンルーム使用方法

  9    NUナノリンク使用方法

  10    閉会の言葉

 

以上,宜しくお願い致します。

 

佐久間臣耶

  (システム管理者)


2018/11/13

2018/11/18(日)東山地区停電に伴う共用装置・予約システム使用停止


11/18()8:00-18:00に東山地区の停電・断水が予定されております.

これに伴い共用装置,予約システムおよびメーリングシステムの使用を停止致します.

装置管理者は,

11/16()-11/17()24:00の間に装置を適切に停止する様お願い致します.

また,事前に装置担当者予約で停止日時-復旧予定日時の予約を入れて,使用者の予約不可とする様お願い致します.


NUナノリンク予約システム,メーリングシステムの停止は

11/16() 16:00-11/19() 11:00頃を予定しています.

事前に予約した分に関してはご利用頂けますが,各装置によって停止状況が異なりますのでご注意ください.


※特に先端研の停止期間は,工事を伴うため下記日程とのことです(鬼頭さんのeメール参照).

先端研クリーンルーム      :11/16() 16:00-11/20() 10:00 (空調,排気,冷却水等停止)

クリーンルーム以外実験室:11/16() 16:00-11/19() 11:00 (冷却水等停止)


新井研究室 丸山,山中

  (システム管理者)


2018/07/01

2018/7からの装置利用料更新作業が完了しました


お知らせしていたとおり,2018年7月より一部の装置について利用料金が変更となりました.

当予約システムにおける新利用料金の更新作業が完了しました.

新井研究室 丸山,山中

  (システム管理者)


装置一覧

装置名をクリックすると各装置の予約状況カレンダーを表示します。
予約申込は「ログイン後」カレンダーの日付欄から行えます。

カテゴリ 装置名
【設置場所】
1時間あたりの
使用料
管理担当者 備考
ナノテクPF加工 41(1) マスクアライナー Suss Micro Tec AG製 MA-6
【先端研】
利用料金:600円
長舟 政宜
nagafune.masanori@biorobotics.mech.nagoya-u.ac.jp
内線 5220
Compatibility of jigs
 Window : 4inch wafer        / Mask : 5 inch
 Window : 30x30 microchip / Mask : 2 to 4 inch mask

Filter : half-cut        : i-line

Never forget to contact the person in charge for your first try.  
ナノテクPF加工 41(2) マスクアライナー Suss Micro Tec AG製 MJB-3
【IB館西棟5階クリーンブース】
利用料金:600円
竹内大
takeuchi@mein.nagoya-u.ac.jp
内線 4481
ナノテクPF加工 41(3) マスクアライナー ナノテック製 LA410
【IB館西棟5階クリーンブース】
利用料金:500円
山口浩樹
hiroki@nagoya-u.jp
内線 2702
ナノテクPF加工 42 スプレーコーター サンメイ製 DC110
【先端研】
利用料金:1,300円
岡 智絵美
chiemi.oka@mae.nagoya-u.ac.jp
内線 5031
ナノテクPF加工 43 レーザ描画装置 Heidelberg製 mPG101-UV
【IB館西棟5階クリーンブース】
利用料金:900円
竹内大
takeuchi@mein.nagoya-u.ac.jp
内線 4481
ナノテクPF加工 44 スパッタリング装置 キャノンアネルバ製 E-200S
【IB館西棟5階クリーンブース】
利用料金:1,600円
室崎 裕一
murozaki@biorobotics.mech.nagoya-u.ac.jp
内線 5220
キャノンアネルバ製

Target 1 : Cr
Target 2 : 秦研使用中
Target 3 : Au

ターゲットの累計使用時間がCr:20 h,Au:6 h を超えましたら,装置管理担当者までご連絡ください.
ナノテクPF加工 45(1) 3次元レーザ・リソグラフィシステム Nanoscribe製 フォトニック・プロフェッショナル
【IB館西棟5階クリーンブース】
利用料金:2,000円
山中 俊郎
yamanaka@biorobotics.mech.nagoya-u.ac.jp
内線 5026
不具合のため利用停止とします.
現在調査中であり,再開は未定です.(19/05/09)
ナノテクPF加工 45(2) 3次元レーザ・リソグラフィシステム KISCO製 SCLEAD3CD2000
【IB館西棟5階クリーンブース】
利用料金:200円
丸山 央峰
hisataka@mech.nagoya-u.ac.jp
内線 5026
旧装置名「超臨界乾燥装置 (Supercritial drying machine)」
ナノテクPF加工 46 光三次元造形装置 Object製 EDEN250
【IB館西棟5階】
利用料金:600円
益田泰輔
masuda@mech.nagoya-u.ac.jp
内線 5026
※停止中
ナノテクPF加工 47 ナノインプリント装置 SCIVAX製 X-300 BVU-ND
【IB館西棟5階クリーンブース】
利用料金:400円
伊藤伸太郎
shintaro.itoh@mae.nagoya-u.ac.jp
内線 3130
形式:熱式、UV式ナノインプリント装置
被転写材料:UV硬化樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂
最高使用温度:250℃、650℃
最大荷重力:50KN
ステージ速度:最大15mm/sec 最小50nm/sec
最大ワークサイズ:φ150mm
最大加圧力:2MPa
最大操作温度:100℃
真空機能:真空チャンバー付属
真空ポンプ:標準機真空到達圧力/300Pa
ナノテクPF加工 48 パリレンコーティング装置 KISCO製 DACS-LAB
【IB館西棟5階】
利用料金:100円
岡 智絵美
chiemi.oka@mae.nagoya-u.ac.jp
内線 5031
旧装置名「diXコーティング (DACS-LAB)」
ナノテクPF加工 51 ICPエッチング装置 サムコ製 RIE-800
【先端研】
利用料金:3,900円
公文 広樹
kumon@biorobotics.mech.nagoya-u.ac.jp
内線 5220
プロセスガス:SF6, C4F8, O2, Ar
ナノテクPF加工 52 ECRスパッタリング装置 エリオニクス製 EIS-230S
【マイクロ・ナノメカトロニクス研究センター】
利用料金:900円
佐久間 臣耶
sakuma@mech.nagoya-u.ac.jp
内線 5026
ナノテクPF加工 54 高精度電子線描画装置 日本電子(株)製 SPG-724
【IB館西棟5階】
利用料金:800円
村島基之
murashima@mech.nagoya-u.ac.jp
内線 2788
旧装置名「FESEM JSM-7000FK」
ナノテクPF加工 55 SEM用断面試料作製装置 日本電子(株)製 SM-09010
【IB館西棟5階531号室】
利用料金:500円
岡 智絵美
chiemi.oka@mae.nagoya-u.ac.jp
内線 5031
ナノテクPF加工 63 ダイシングソー DISCO製 DAD522
【先端研】
利用料金:1,600円
笠井 宥佑
kasai@biorobotics.mech.nagoya-u.ac.jp
内線 5220
ナノテクPF加工 64 リアクティブイオンエッチング装置 サムコ製 RIE-10N
【先端研】
利用料金:3,000円
大島大輝
oshima@nuee.nagoya-u.ac.jp
内線 3648
プロセスガス:SF6, C4F8, CHF3, O2
ナノテクPF加工 73 Deep Si Etcher 住友精密工業製 Multiplex-ASE
【超高温高圧発生装置室】
利用料金:5,000円
東直輝
naoki.azuma@mae.nagoya-u.ac.jp
内線 2709

旧装置名「DRIE装置 (Multiplex-ASE-LS)」


住友精密工業製

エッチングガス:SF6
パッシベーションガス:C4F8
その他導入可能ガス:O2,Ar

カテゴリ 装置名
【設置場所】
1時間あたりの
使用料
管理担当者 備考
ナノテクPF計測 49 小型微細形状測定機 小坂研究所製 ET200
【先端研】
利用料金:500円
岡 智絵美
chiemi.oka@mae.nagoya-u.ac.jp
内線 5031
旧装置名「段差計 Profilometer (微細形状測定器Surfcorder ST200)」
ナノテクPF計測 50 蛍光バイオイメージング装置 共焦点レーザ顕微鏡システム ニコン製 A1Rsi-N
【IB館西棟5階】
利用料金:800円
徳 悠葵
toku@mech.nagoya-u.ac.jp
内線 5122
ナノテクPF計測 56 デジタルマイクロスコープ KEYENCE製 VK-9700
【マイクロ・ナノメカトロニクス研究センター】
利用料金:600円
早坂 健宏
takehiro.hayasaka@mae.nagoya-u.ac.jp
内線 5305
ナノテクPF計測 70 原子間力顕微鏡 日本Veeco製 NanoMan VS-1N
【IB館西棟5階】
利用料金:300円
石川健治
ishikawa@plasma.engg.nagoya-u.ac.jp
内線 6077
旧装置名「AFM(走査型プローブ顕微鏡 NanoMan VS-1N)」
ナノテクPF計測 71 デジタルマイクロスコープ一式 KEYENCE製 VK-9510
【IB館西棟5階】
利用料金:800円
早坂 健宏
takehiro.hayasaka@mae.nagoya-u.ac.jp
内線 5305
旧装置名「3D 共焦点レーザ顕微鏡 3D Conforcal Laser Scanning Microscope (VK-9510)」
Keyence製
・ハロゲンランプ(OP-91641; 4800円)の寿命は約1000時間
・XY自動ステージの可動範囲は51mm
・Zステージの可動範囲は28mm,ハンドルの移動量は粗動約3.3mm/rev,微動2um/目盛

対物レンズ

10×

20×

50×

150×

観察測定範囲

横(H):mm

縦(V):mm

1350

1012

675

506

270

202

90

67

作動距離:mm

16.5

3.1

0.35

0.2

開口数(N.A.

0.3

0.46

0.95

0.95

カテゴリ 装置名
【設置場所】
1時間あたりの
使用料
管理担当者 備考
加工 DUVレーザ加工機 (薄膜加工用レーザーシステム HPS301NF)
【IB館西棟5階】
利用料金:4,000円
丸山 央峰
hisataka@mech.nagoya-u.ac.jp
内線 5026
(株)デザインテック製
( 旧(株)ハイパー・フォトン・システム社製 )
加工 ウエハ接合装置 ボンドテック社製 WAP-100N
【NIC5階クリーンルーム】
Tentative:3,000円
室崎 裕一
murozaki@biorobotics.mech.nagoya-u.ac.jp
内線 5220
加工 電鋳装置 日立協和エンジニアリング製 HIKEP-M
【マイクロ・ナノメカトロニクス研究センター】
利用料金:100円
丸山 央峰
hisataka@mech.nagoya-u.ac.jp
内線 5026
カテゴリ 装置名
【設置場所】
1時間あたりの
使用料
管理担当者 備考
計測 ZYGO(白色干渉顕微鏡)
【IB館西棟5階】
利用料金:400円
張 賀東
zhang@is.nagoya-u.ac.jp
内線 4803
Using scanning white light interferometry technology, ZYGO NewView 6200 provides three-dimensional surface profile measurements with a vertical resolution of 0.1 nm and a lateral resolution of 0.43 µm. Profile heights range from sub-nm up to 15 mm, independent of surface texture, magnification, or feature height. ZYGO NewView 6200 measures a wide range of surfaces, including smooth, rough, flat, sloped, and stepped surfaces, characterizing and quantifying surface roughness, step heights, critical dimensions, and other topographical features. All measurements are nondestructive, fast, and require no sample preparation.

System
Measurement Technique: Non-contact,
                                three-dimensional,
                      scanning white light and
    optical phase-shifting interferometry
Scanner: Closed-loop piezo-based,
                with highly linear capacitive 
                sensors
Objectives: Infinite conjugate
                   interferometric objectives;
                   2.5X, 5X, 10X, 50X, 100X
Zoom Lenses: High-quality discrete
                        zoom lenses;
                        0.5X, 1.0X, 2.0X
Performance
Vertical Scan Range: 15 mm
Vertical Resolution: 0.1 nm
Lateral Resolution: 0.43 µm
Test Part
Characteristics
Material: Various surfaces: opaque,
               transparent, coated, uncoated,
               specular, and nonspecular
Maximum Size: 89 x 203 x 203 mm
                         (H x W x D)
Reflectivity: 1100%

計測 生体イメージング装置 Biomolecular Imager (LAS-4000, Fuji Film) 利用料金:50円
益田泰輔
masuda@mech.nagoya-u.ac.jp
内線 5026
計測 段差計 Profilometer (微細形状測定器 Surfcorder ET200)
【IB館西棟5階クリーンブース】
利用料金:400円
丸山 央峰
hisataka@mech.nagoya-u.ac.jp
内線 5026
カテゴリ 装置名
【設置場所】
1時間あたりの
使用料
管理担当者 備考
その他 マイクロ・ナノメカトロニクス研究センター2階会議室
【マイクロ・ナノメカトロニクス研究センター】
利用料金:0円
丸山 央峰
hisataka@mech.nagoya-u.ac.jp
内線 5026
その他 洗濯・乾燥機 (BW-D6LV)
【IB館西棟5階】
利用料金:100円
丸山 央峰
hisataka@mech.nagoya-u.ac.jp
内線 5026
日立電気洗濯乾燥機
その他 BIG-PAD
【工学部2号館424会議室(機械系会議室)】
利用料金:0円
丸山 央峰
hisataka@mech.nagoya-u.ac.jp
内線 5026
USBに保存しアドバンストコントローラ(PC)に接続するか、各自のPCにペンソフトドライバをインストールして接続することで、画面に書き込む等の操作が可能になります。

ペンソフトドライバは以下
SHARP HPホーム > 法人のお客様へ > ダウンロード > ドライバー・ソフトウェア>PN-L702B[70V型]タッチパネルドライバー
http://www.sharp.co.jp/lcd-display/corporate/support/download/driver.html